微软最近也给挪威初创公司Lace Lithography注了资，这家公司想做个0.1纳米的芯片，直接挑战一下ASML的老大地位。消息是Tom's Hardware那边发的，说这个Lace在微软的支持下完成了4000万美元的A轮融资。虽然看起来数目挺大，但按照现在的汇率也就合2.76亿元人民币。这家公司其实是卑尔根大学的物理学家Holst和西班牙人Adrià Salvador Palau一块儿搞出来的。目前他们在挪威、西班牙、英国还有荷兰都有业务，总共雇了50来个人。上个月在SPIE 2026这个先进光刻会议上还露了一手呢。 接下来Lace打算用这笔钱研发个全新的芯片制造工具。按照计划，他们要在2029年前把这套测试工具送到试点晶圆厂去，正式开始原子级光刻的商业化验证。这和现在大家常用的那种用光来刻蚀硅片的路子不太一样。Lace不走寻常路，直接拿氦原子束当图案化的媒介。这项技术特别厉害，有望打破半导体行业一直以来的物理瓶颈。因为原子没有波长带来的衍射限制，它的聚焦精度是ASML现有技术的135倍，能做出比现在精细10倍的结构。他们把这个技术叫“BEUV”，意思就是“超越极紫外光”。 随着芯片越来越小，传统工艺没办法只好用多重曝光来凑数，不仅费钱还容易坏。Lace用氦原子束直接画芯片结构，既解决了分辨率问题又省了不少工序。虽然ASML的极紫外光（EUV）光刻机现在受到13.5纳米波长的限制，但Lace用的中性氦原子束宽度只有0.1纳米左右，大概跟一个氢原子差不多大。这意味着以后不用再依赖那种复杂的曝光工艺了。